Getter Al Titanio Coloniale Ad Alta Capacità Per Apparecchiature Per Semiconduttori E Laser
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Getter Al Titanio Coloniale Ad Alta Capacità Per Apparecchiature Per Semiconduttori E Laser

Getter Al Titanio Coloniale Ad Alta Capacità Per Apparecchiature Per Semiconduttori E Laser

Mantenimento dell'Ambiente Sottovuoto

Miglioramento della Stabilità dell'Apparecchiatura

Compatibilità di Processo

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Un getter coloniale è un componente funzionale non evaporabile che utilizza il titanio come materiale attivo principale. Formato attraverso un processo di sinterizzazione metallurgica delle polveri, l'elemento presenta una forma geometrica definita e una resistenza meccanica sufficiente. In un ambiente sotto vuoto, assorbe chimicamente gas attivi come idrogeno, ossigeno, azoto e monossido di carbonio. Formando composti chimici stabili con queste molecole di gas, il getter al titanio purifica continuamente l'atmosfera residua, contribuendo a preservare la stabilità del vuoto a lungo termine.

Basandosi sull'attività termodinamica del titanio, l'elemento si attiva e svolge la sua funzione di assorbimento in specifiche condizioni di temperatura. La sua geometria coloniale facilita il montaggio e la disposizione all'interno delle camere a vuoto, rendendolo adatto per apparecchiature industriali e strumenti che richiedono livelli di vuoto sostenuti. Grazie a proprietà fisiche e chimiche stabili, questo elemento getter offre prestazioni affidabili in vari ambienti operativi, fornendo una base fondamentale per le prestazioni affidabili a lungo termine dei sistemi da vuoto.

 

Specifiche del Prodotto

Materiale: Titanio Gr1

Diametro: 9 mm

Lunghezza: 20 mm

Dimensione dei pori: 20 µm

Tecnologia: sinterizzazione

 

Caratteristiche del Prodotto
High-Capacity Columnar Titanium Getter for Semiconductor and Laser Equipment 4

 

Mantenimento dell'Ambiente Sottovuoto
Assorbe continuamente le molecole di gas attive all'interno delle camere sigillate, impedendo alle atmosfere residue di interferire con i processi operativi e stabilendo condizioni di vuoto pulito per il funzionamento delle apparecchiature.

Miglioramento della Stabilità dell'Apparecchiatura
Riduce la pressione parziale dei gas impuri all'interno delle camere, minimizzando gli effetti negativi come le scariche di gas e l'ossidazione degli elettrodi per aiutare le apparecchiature a mantenere prestazioni operative stabili.

Compatibilità di Processo
La geometria coloniale si adatta a varie configurazioni di camera da vuoto con opzioni di installazione flessibili che non interferiscono con i layout delle apparecchiature esistenti o con la distribuzione del flusso di gas.

High-Capacity Columnar Titanium Getter for Semiconductor and Laser Equipment 1

Capacità di Servizio a Lungo Termine
Il materiale getter mantiene un'attività di assorbimento stabile per tutta la durata del servizio, rispondendo efficacemente a diverse condizioni operative tra cui lento rilascio di gas e funzionamento intermittente.

Garanzia della Purezza dell'Atmosfera Gassosa
Riduce efficacemente la concentrazione di gas attivi all'interno della camera, minimizzando l'impatto delle atmosfere impure sull'integrità del processo e fornendo basi di ambiente gassoso stabile per i mezzi di lavoro laser o gli ambienti di lavorazione dei semiconduttori.

Adattabilità a Molteplici Scenari
Adatto per varie apparecchiature industriali che richiedono condizioni di vuoto, compatibile con sistemi da vuoto di diverse specifiche e svariati requisiti applicativi.

Applicazioni del Prodotto
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Apparecchiature per Semiconduttori
Adsorbe i gas residui in camere per processi di incisione e PECVD per mantenere ambienti di processo stabili.

Laser Industriali
Rimuove i gas impuri nelle cavità dei laser CO₂ ed eccimeri per sostenere la potenza di uscita del laser.

Sistemi di Rivestimento Sottovuoto
Intrappola le atmosfere residue nei coater ottici e nei sistemi di sputtering per migliorare la purezza e l'adesione dei film.

Tubi a Raggi X
Installato nei tubi per TAC mediche e nei tubi per ispezione industriale per prevenire l'arco elettrico ed estendere la durata operativa.

Microscopi Elettronici
Posizionato nelle camere dei campioni di SEM e TEM per assorbire il rilascio di gas e preservare la risoluzione dell'immagine.

Sistemi da Vuoto per Ricerca
Applicato in configurazioni sperimentali UHV per supportare le pompe principali nel mantenere il vuoto estremo per studi di lunga durata.

 

 

 

 

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