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Filtro Sinterizzato 5μm 316L Per La Purificazione Chimica Nei Semiconduttori
Distribuzione del Flusso Ottimizzata per Output Stabile
Rilascio Metallico Ultra-Ridotto per Mezzi Corrosivi
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introduzione al prodotto
Questo Filtro Sinterizzato 5μm 316L per la Purificazione Chimica nei Semiconduttori è realizzato in polvere di acciaio inossidabile ad alta purezza tramite sinterizzazione ad alta temperatura. Presenta una struttura porosa stabile e un'eccellente resistenza meccanica, garantendo un'efficiente ritenzione delle particelle durante la filtrazione chimica. Il suo materiale mantiene l'integrità strutturale anche a contatto con fluidi altamente corrosivi, risultando particolarmente adatto ad applicazioni con controlli rigorosi sulla precipitazione metallica.
Progettato specificamente per la purificazione chimica nei processi semiconduttori, assicura precisione filtrante senza compromettere resistenza alla pressione e alle temperature. Lo strato filtrante metallico può essere riutilizzato dopo il lavaggio, prolungando il ciclo operativo del sistema, garantendo l'efficienza di filtrazione e riducendo i costi operativi complessivi.
Specifiche Tecniche del Prodotto
| Materiale | 316L | |||
| Grado di filtrazione/Dimensione dei pori | 5 μm | |||
| Diametro | 40 mm | |||
| Lunghezza | 69 mm | |||
| Connettore | Flangia | |||
| Tecnologia | Sinterizzazione | |||
Caratteristiche del Prodotto
🔹 Ritenzione Efficiente delle Particelle per Liquidi ad Alta Purezza
Progettato per trattenere contaminanti sub-micronici nei fluidi ad altissima purezza, previene efficacemente i depositi a valle e migliora la pulizia generale del sistema.
🔹 Rilascio Metallico Ultra-Ridotto per Mezzi Corrosivi
Costruito in acciaio inossidabile 316L di prima qualità con trattamento superficiale multi-step, garantisce un rilascio minimo di ioni metallici anche in condizioni acide o alcaline aggressive – ideale per processi semiconduttori ultrapuri.
🔹 Distribuzione del Flusso Ottimizzata per Output Stabile
La distribuzione dei pori controllata con precisione riduce al minimo la caduta di pressione interna, assicurando prestazioni di flusso costanti durante il funzionamento continuo.
🔹 Pulizia Ripetibile Senza Deformazioni
Eccellente resistenza agli shock termici e alla fatica strutturale, permette pulizie ultrasoniche, a controflusso o chimiche senza compromettere la precisione filtrante dopo numerosi cicli.
🔹 Tenuta Flangiata Integrata per Installazione Affidabile
La testa flangiata con guarnizione integrata riduce le zone morte e semplifica l'integrazione con linee di processo automatizzate o moduli fluidici di precisione.
Applicazioni del Prodotto
Filtrazione chimica per la pulizia dei wafer
Rimozione efficiente di particelle metalliche in acidi (fluoridrico/solforico), previene depositi di ferro e nichel e migliora la resa produttiva.
Filtrazione degli sviluppatori fotolitografici
Caratteristiche di precipitazione metallica estremamente basse, adatto per la filtrazione di sviluppatori fortemente alcalini, proteggendo la purezza dello strato fotoresistente.
Purificazione in circolazione del liquido da lucidatura
Struttura isobarica stabilizza il flusso, filtra efficacemente gli aggregati di particelle abrasive e prolunga la durata del cuscinetto di lucidatura.
Filtrazione terminale per acqua ultrapura
Progettato per la rigenerazione, cattura i residui di corrosione delle tubazioni e mantiene costantemente l'eccezionale purezza dell'acqua durante il funzionamento.
Filtrazione del liquido da incisione umida
Il design a tenuta flangiata rimuove in tempo reale le impurità in acido cloridrico/nitrico proteggendo la camera di reazione.
Purificazione dei liquidi di lavaggio gas
La struttura resistente alla corrosione mantiene un flusso stabile prevenendo guasti del sistema causati dall'accumulo di particelle.
Filtrazione di precisione per liquidi di galvanica
Minimizza il rilascio di ioni di rame e stagno prevenendo difetti di placcatura e migliorando l'affidabilità del packaging dei semiconduttori.
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