Getter in titanio φ2*2mm per adsorbimento di impurità di gas

Il Getter in titanio φ2*2mm di TOPTITECH è una soluzione di adsorbimento di gas ad alte-prestazioni progettata per sistemi di vuoto di precisione. Realizzato con polvere di titanio di purezza ultra-elevata-, questo getter presenta un'eccezionale capacità di assorbimento di gas reattivi come idrogeno (H₂), azoto (N₂), monossido di carbonio (CO) e vapore acqueo (H₂O). La sua forma cilindrica compatta, ottimizzata per un elevato rapporto tra superficie-area-e-volume, garantisce un'efficiente cattura del gas attraverso meccanismi di chemisorbimento e diffusione. Ideale per applicazioni nel trattamento termico sotto vuoto, nella produzione di semiconduttori e in dispositivi elettronici sigillati, questo getter in titanio funziona efficacemente a temperature comprese tra 650 e 760 gradi, prevenendo l'ossidazione e mantenendo le condizioni di ultra-vuoto spinto (UHV) al di sotto di 10⁻¹⁰ mbar.

Progettato per garantire durata e affidabilità, il Getter in titanio da φ2*2mm di TOPTITECH sfrutta tecniche avanzate di metallurgia delle polveri, tra cui la pressatura a freddo e la sinterizzazione ad alta-temperatura, per ottenere resistenza meccanica e stabilità termica superiori. Le sue proprietà non-evaporabili lo rendono una scelta sostenibile, in grado di rigenerarsi ripetutamente attraverso processi di cottura-out controllati. Compatibile con la lavorazione della lega di titanio, questo getter riduce al minimo la contaminazione superficiale e lo scolorimento, garantendo la qualità incontaminata dei componenti. Sia che venga integrato nelle zone calde di forni a vuoto o utilizzato insieme a leghe del gruppo IV-, questo getter di titanio offre prestazioni ineguagliabili nella rimozione delle impurità dei gas, rendendolo un componente indispensabile per applicazioni industriali e scientifiche di alta-precisione.

Caratteristiche dei prodotti

 

 

Elevata capacità di assorbimento: il getter in titanio da φ2*2 mm raggiunge eccezionali prestazioni di assorbimento del gas, in grado di catturare gas reattivi come idrogeno (H₂), azoto (N₂), monossido di carbonio (CO) e vapore acqueo (H₂O) con una capacità di assorbimento fino a 500 cm³/g, garantendo condizioni di ultra-vuoto elevato (UHV) inferiori a 10⁻¹⁰ mbar.

Area superficiale ottimizzata: progettato con un design cilindrico compatto, questo getter massimizza il rapporto tra superficie-area-e-volume, migliorando l'efficienza di chemisorbimento e diffusione per una rimozione superiore delle impurità del gas nei sistemi a vuoto.

Stabilità termica: resistendo a temperature operative che vanno da 650 gradi a 760 gradi, il getter in titanio mantiene l'integrità strutturale e le prestazioni di adsorbimento, rendendolo ideale per il trattamento termico sotto vuoto ad alta-temperatura e la produzione di semiconduttori.

 

 

Proprietà non-evaporabili: a differenza dei getter tradizionali, questa soluzione-a base di titanio non evapora, garantendo stabilità a lungo-termine e riducendo i rischi di contaminazione in ambienti sensibili come dispositivi elettronici sigillati e acceleratori di particelle.

Capacità rigenerativa: progettato per la sostenibilità, il getter può essere rigenerato attraverso processi di cottura-out controllati, consentendo un uso ripetuto e riducendo i costi operativi nelle applicazioni industriali.

Purezza del materiale: prodotto con polvere di titanio di purezza ultra-elevata-al 99,9%, il getter garantisce un degassamento minimo e prestazioni costanti, fondamentali per mantenere l'integrità del vuoto nei sistemi di precisione.

applicazioni

Trattamento termico sotto vuoto: il getter in titanio da φ2*2 mm è essenziale nei forni sotto vuoto per il trattamento termico delle leghe di titanio, prevenendo l'ossidazione e lo scolorimento a temperature comprese tra 650 gradi e 760 gradi, garantendo una qualità superficiale incontaminata nei componenti aerospaziali e medici.

Produzione di semiconduttori: utilizzato in ambienti ad ultra-vuoto spinto (UHV), questo getter mantiene pressioni inferiori a 10⁻¹⁰ mbar, fondamentali per la lavorazione dei wafer, la deposizione di film sottili-e la litografia nella fabbricazione di semiconduttori.

Dispositivi elettronici sigillati: integrato nei tubi a raggi catodici (CRT), nei tubi a raggi X- e nelle ampolle sottovuoto, il getter assorbe efficacemente i gas residui, migliorando le prestazioni e la longevità del dispositivo.

Acceleratori di particelle: nella ricerca sulla fisica delle alte- energie, il getter al titanio garantisce condizioni di vuoto ultra-pulite, riducendo al minimo l'interferenza del gas nelle operazioni del fascio di particelle e l'accuratezza sperimentale.

Rivestimenti ottici: applicato nei sistemi di rivestimento sotto vuoto, il getter rimuove le impurità durante la deposizione di rivestimenti anti-riflesso, protettivi e decorativi su lenti, specchi e ottiche di precisione.

Componenti aerospaziali: utilizzato nella produzione di parti aerospaziali a base di titanio-, il getter previene la contaminazione durante la brasatura e la ricottura sotto vuoto, garantendo integrità strutturale e prestazioni.

 

Produzione di dispositivi medici: fondamentale per la produzione di impianti e strumenti chirurgici in titanio di elevata purezza-, il getter elimina le impurità del gas durante i processi di sinterizzazione sotto vuoto e sterilizzazione.

 

Ricerca e sviluppo: ideale per sistemi a vuoto su scala di laboratorio-, il getter supporta esperimenti nella scienza dei materiali, nella fisica delle superfici e nelle nanotecnologie mantenendo ambienti stabili e privi di contaminazione-.

 

Sistemi di accumulo dell'energia: nella produzione di batterie agli ioni di litio-, il getter garantisce condizioni di vuoto pulite durante la produzione degli elettrodi, migliorando l'efficienza e la durata della batteria.

 

Fotonica e laser: utilizzato nella fabbricazione di diodi laser e fibre ottiche, il getter mantiene basse pressioni parziali del gas, migliorando l'affidabilità del dispositivo e la stabilità dell'uscita.

 

 

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